5-нанометровые чипы китайского производства: реальность или амбициозная цель?

В последние выходные появились сообщения о начале совместных испытаний Huawei и SMIC первых полностью китайских машин для производства микросхем. Этот шаг сигнализирует о решимости Китая снизить зависимость от зарубежных технологий, в частности, от голландской компании ASML, лидера в производстве оборудования для фотолитографии.

По информации источников, близких к компаниям, разработка этих машин направлена на обеспечение полной технологической независимости Китая и защиту от возможных санкций США. Планируется начать опытно-промышленное производство чипов уже в третьем квартале текущего года.

Если испытания пройдут успешно, то серийное производство оборудования ожидается во второй половине 2024 года, а его полноценное внедрение – в 2026 году. Китайская разработка ориентирована на производство чипов с 5-нанометровой технологией, используя упрощенный и компактный дизайн.

Это позволяет снизить энергопотребление и себестоимость производства высокотехнологичных микросхем. Отдельного упоминания заслуживает разработка харбинской команды – источника света для экстремального ультрафиолета (EUV) с плазменным разрядом. Он обеспечивает длину волны 13,5 нм, соответствующую современным требованиям рынка, при этом демонстрируя более низкое энергопотребление по сравнению с аналогами от ASML.

Пока ни Huawei, ни SMIC официально не подтвердили эту информацию. Тем не менее, эксперты оценивают вероятность появления 5-нанометровых чипов китайского производства к 2026 году как высокую. Этот потенциальный прорыв знаменует собой важный этап в развитии китайской микроэлектронной промышленности и ее стремлении к технологическому суверенитету.